Президент Беларуси Александр Лукашенко в Минске при посещении ОАО «Планар» принял участие в церемонии запуска Центра спецтехнологического оборудования для производства фотошаблонов и микрооптики, передает корреспондент БЕЛТА.

• Бежать на полшага впереди. Лукашенко поставил задачу перед белорусской микроэлектронной промышленностью
• Лукашенко: не надо париться по поводу искусственного интеллекта, человека он пока не заменит
• Лукашенко: размеры государства определяются не его площадью, а интеллектом и технологиями

Фотошаблон — это высокоточный трафарет (на стекле или пленке) с рисунком будущей микросхемы или печатной платы, используемый в фотолитографии для переноса изображения на подложку. Проще говоря, без фотошаблона невозможно сделать ни одну микросхему.

Новый центр — единственный на территории стран бывшего СССР комплекс, позволяющий изготавливать изделия технологического уровня 90 нм, критически необходимые для создания передовых образцов оборудования электронного машиностроения. Данный центр также служит полигоном для отработки новых версий программного обеспечения, разрабатываемого на предприятии.

Создание центра позволит обеспечить производство фотолитографического оборудования и оборудования для изготовления фотошаблонов собственными изделиями.

Все подготовительные, проектные и строительно-монтажные работы были выполнены в максимально сжатые сроки, за счет чего удалось завершить создание центра на 2 года раньше планируемого срока.

По итогам выполнения всех работ в инженерно-лабораторном корпусе создан центр спецтехнологического оборудования для производства изделий микрооптики и фотошаблонов. Компетенциями по разработке и созданию подобного оборудования обладают лишь несколько стран в мире: США, Япония, отдельные страны Евросоюза. При этом линейка оборудования для бездефектного изготовления фотошаблонов, размещенная в центре, является уникальной, так как ни одно государство в мире не обладает компетенциями по разработке и изготовлению всей номенклатуры лазерного оборудования электронного машиностроения, необходимой для организации технологического процесса производства фотошаблонов.

С учетом перспектив развития, у центра имеется потенциал для последующего перехода к более низким проектным нормам — 65 нм, для чего планируется дооснастить производство.